BAO Mask Avenger(AE高级遮罩脚本) v2.7.1最新版 AE高级遮罩脚本

BAO Mask Avenger是一款非常专业的AE的高级遮罩脚本。这款软件支持控制Mask(遮罩)的顶点及切线。支持为顶点添加3D模式(Z轴)，支持对顶点添加表达式控制。

软件说明

BAO Mask Avenger是一款AE的高级遮罩脚本，这款脚本可以直接在AE中控制和编辑Mask路径和遮罩的顶点，同时在三维空间做路径动画。

功能特色

拉姆预览保护。以前版本的最大问题是Ram预览无效通过插件。 Mask Avenger 2.0新的烘焙系统避免了这一点。3D面具。 Mask Avenger现在可以在3D中控制蒙版，而无需使用空图层和表达式。然后更快地计算掩模，并简化表达式写入。背景烘焙。当需要修改蒙版时，蒙版复仇者会立即对其进行转换当前时间，并在后台烘烤工作区域的其余部分。这意味着您可以继续工作而面具复仇者正在忙着烘焙。这取代了«Dynamic»和«bake»模式。更好地塑造层兼容性。与“动态”模式相关的错误随着新烘焙而消失系统。工作区和图层的持续时间不再影响Mask Avenger的计算速度。当然，烘焙100,000个关键帧需要超过10个，但新的烘焙系统允许您继续工作而它正在烘烤。不再需要Mask Renderer。 Mask Avenger现在使用AE自己的掩蔽功能，运行速度更快。面具预览。 Mask avenger 2.0有一个预览系统，可以动态地显示它们之前的变化适用于面具。这可以避免在表达式，其他图层或相机修改蒙版时出现延迟。

蒙版控制说明

使用After Effects中的本机插件单独控制蒙版顶点(和切线)!

每个顶点都由一个点参数单独驱动，具有您可以预期的所有功能：

关键帧，缓动，表达式和3D空间。

您可以选择仅使用顶点或完全控制切线。

集成脚本将帮助您使用表达式，并允许您将2D蒙版转换为3D蒙版。

通过简单的拾取 - 鞭子表达式将掩码顶点链接到跟踪器点。

使用“烘焙”。 模式以关键帧你的面具与没有面具复仇者的用户分享你的项目。

Mask Avenger是一个原生的After Effects插件。